硅业超声波清洗机是一种半导体晶片清洗设备,广泛用于硅片的湿法化学工艺中。它利用超声波的振动和清洗剂的作用,有效去除硅片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层等污染物,且不破坏硅片表面特性。
硅业超声波清洗机通常由超声波发生器、清洗槽和清洗剂组成。超声波发生器产生高频振动,通过清洗槽中的清洗剂传递给硅片,使污染物从硅片表面脱落。同时,清洗剂中的化学物质可以与污染物发生化学反应,进一步清洁硅片表面。
硅业超声波清洗机的优点包括:清洗效果好,能够彻底去除硅片表面的污染物;效率高,可以快速清洗大量的硅片;环保,使用环保型清洗剂,不会对环境造成污染。
总之,硅业超声波清洗机是半导体制造过程中重要的设备之一,可以有效提高硅片的清洁度和质量,为半导体器件的性能和可靠性提供保障。
功能特点:外封采用优质PP制作,全封闭结构。采用触摸屏、PLC控制伺服小车完成清洗过程,具有鼓泡、摆动、定时、加热、声光报警、酸洗、碱洗、漂洗、烘干等功能,适用于单晶、多晶太阳能硅片的大批量高洁净清洗。本设备设有溢流循环过滤重复使用,节省水消耗。
清洗流程:上料浸泡→超声清洗→超声酸洗→超声漂洗→超声碱洗→超声碱洗→超声漂洗→超声漂洗→超声漂洗→慢提拉脱水→烘干→下料